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7.14 EUV-Nanometrologie - GISAXS

GISAXS

GISAXS ist eine moderne zerstörungsfreie Messtechnik zur Untersuchung von nanostrukturierten Oberflächen. In einem GISAXS Experiment wird eine nanostrukturierte Probe mit Röntgenstrahlen unter streifendem Einfall beleuchtet und die Winkelverteilung der reflektierten und gestreuten Röntgenphotonen bestimmt. Diese Streuverteilung ist korreliert mit der Morphologie der Oberfläche. Allerdings ist es im allgemeinen nicht möglich, aus der Streuverteilung rigoros die dimensionelle Form der Strukturen abzuleiten. Stattdessen müssen geeignete Vorwärtsrechnungen auf Grundlage eines Modells der Struktur gewählt werden um die Streuintensitäten zu simulieren.


Experimente mit GISAXS können an der FCM Beamline bei BESSY II durchgeführt werden. Das Strahlrohr ermöglicht Röntgenstrahlung mit einer sehr kleinen Divergenz im weicheren Energiebereich (Tender X-ray) zu nutzen. Ein vakuumkompatibler Hybrid-Pixel-Detektor PILATUS 1M ermöglicht es die einzelnen gestreuten Photonen zu detektieren.
Weitere Informationen finden sich unter (Opens external link in current window7.21 Röntgenradiometrie ).

 


FCM Beamline
Energy range:1.75 keV - 10 keV
Photon flux: 10^10 / s
Beam waist:0.5 mm x 0.5 mm (options for smaller beam size with pinholes)
Divergence:0.01°
Energy resolution:10^-4
Preferred sample sizes:> 1 mm x 10 mm

 

 

Detector
GISAXS:PILATUS 1M (in-vacuum)
scattering angles in plane:0° - 5°
scattering angles out of plane:0° - 2°
angular resolution:< 0.003°
sample-detector distance:2.3 m - 4.5 m
pixel size:172 µm
WAXS:PILATUS 100k (in-vacuum)
scattering angles in plane:0° - 90°
scattering angles out of plane:0° - 9°
angular resolution:0.05°
sample-detector distance:200 mm
pixel size:

172 µm

 

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