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Mathematische Modellierung und Datenanalyse

Fachbereich 8.4

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Artikel

Titel: Efficient Bayesian inversion for shape reconstruction of lithography masks
Autor(en): N. Farchmin, M. Hammerschmidt, P. I. Schneider, M. Wurm, B. Bodermann, M. Bär and S. Heidenreich
Journal: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS
Jahr: 2020
Band: 2
Ausgabe: 19
Seite(n): 1--11
DOI: 10.1117/1.JMM.19.2.024001
Marker: 8.4,8.41,UQ,Scatter-Inv

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