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Artikel
Titel: | Efficient Bayesian inversion for shape reconstruction of lithography masks |
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Autor(en): | N. Farchmin, M. Hammerschmidt, P. I. Schneider, M. Wurm, B. Bodermann, M. Bär and S. Heidenreich |
Journal: | Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS |
Jahr: | 2020 |
Band: | 2 |
Ausgabe: | 19 |
Seite(n): | 1--11 |
DOI: | 10.1117/1.JMM.19.2.024001 |
Marker: | 8.4,8.43,UQ,Scatter-Inv |