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Die EUV-Lithographie ermöglicht die Fortsetzung des Mooreschen Gesetzes

Festkolloquium zur Verabschiedung von Dr. Gerhard Ulm

Seit mehr als 50 Jahren treibt Moore’s Law die rasante Weiterentwicklung der Chip- Technologie an. Die großen Fortschritte in der Auflösung der Lithographie-Optik haben wesentlich dazu beigetragen.

Derzeit findet der nächste, historisch wohl größte Sprung in der Technologie statt: Nach langer Anlaufphase beginnt bei den führenden Chip- Produzenten die Massenfertigung mit EUVLithographie. Die Hochleistungs-Optik dafür wird jetzt im Volumen bei ZEISS produziert. Gleichzeitig wird bereits die nächste Technologie-Generation vorbereitet: „EUV High-NA“. Wir zeigen einen Überblick über den aktuellen Stand der Optik- Technologie und geben einen Ausblick auf die zukünftigen Systeme.