Müller-ellipsometrische Schichtdickenmessungen mit verbessertem Auswerteverfahren für depolarisierende Müller-matrizen

Für die Analyse von Messungen mit einem spektroskopischen Müller-matrix Ellipsometer wurde in der PTB kürzlich ein neuartiges Analyseverfahren entwickelt, welches den Einfluss von Depolarisation und anderen stochastischen Einflussgrößen adäquat in der Messunsicherheitsschätzung berücksichtigt. Dieses Verfahren wurde nun erstmalig auf die Messung der Dicken von SiO2-Schichten angewendet. Die Ergebnisse von Messungen an verschiedenen Sätzen an kalibrierten Schichtdickennormalen mit nominalen Schichtdicken zwischen 6 nm und 1000 nm zeigen eine exzellente Übereinstimmung mit den bekannten Kalibrierwerten.

Weitere Informationen:

Tobias Grunewald, Matthias Wurm, Sven Teichert, Bernd Bodermann, Johanna Reck, Uwe Richter: Measurement of layer thicknesses with an improved optimization method for depolarizing Mueller matrices, Meas. Sci. Technol. 31 (2020), 105010 (9pp), https://doi.org/10.1088/1361-6501/ab95da