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Röntgenmesstechnik mit Synchrotronstrahlung

Fachbereich 7.2

Aufgaben

Nutzung von Synchrotronstrahlung insbesondere im Röntgenbereich zur Bearbeitung grundlegender und angewandter metrologischer Aufgaben mit dem Schwerpunkten Radiometrie, Spektrometrie und Nanometrologie:

Nachrichten

Metrologie mit Synchrotronstrahlung für die Halbleiterfertigung

Die Ankündigung der großen Halbleiterproduzenten Samsung und TSMC im Herbst 2018, EUV-Lithografie (EUVL) für die Herstellung ihrer High-End-Prozessoren einzusetzen, markiert den kommerziellen Durchbruch dieser Technologie nach einer langen Phase der Vorlaufforschung. Die PTB unterstützt bereits seit zwanzig Jahren die Entwicklung von...

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Die zunehmende Komplexität von nano-strukturierten Oberflächen bei technologischen Anwendungen ist eine enorme Herausforderung auch für deren metrologische Charakterisierung. Besonders in der Halbleiterindustrie sind hochkomplexe und mehrdimensionale Nanostrukturen, die aus unterschiedlichen Materialien zusammengesetzt sind, von großer Bedeutung. Im PTB-Laboratorium am Elektronenspeicherring BESSY...

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Fundamentale Materialparameter wie zum Beispiel die Wirkungsquerschnitte zur Wechselwirkung von Materie mit Strahlung sind sowohl für die Grundlagenforschung als auch für diagnostische und analytische Anwendungen von großer Bedeutung. In Zusammenarbeit mit dem Fraunhofer IPM in Freiburg i. Br. wurden an der Metrology Light Source kürzlich die...

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