Röntgenmesstechnik mit Synchrotronstrahlung

Fachbereich 7.2

Aufgaben

Nutzung von Synchrotronstrahlung insbesondere im Röntgenbereich zur Bearbeitung grundlegender und angewandter metrologischer Aufgaben mit dem Schwerpunkten Radiometrie, Spektrometrie und Nanometrologie:

Betrieb und Nutzung der Metrology Light Source (MLS) und von BESSY II als berechenbare primäre Strahlernormale
Realisierung der Skala der spektralen Empfindlichkeit im Röntgenbereich und Kalibrierung von Röntgendetektoren
Kalibrierung von Strahlungsquellen
Charakterisierung von Weltrauminstrumentierung
Reflektometrie an optischen Komponenten im Röntgenbereich und Schichtdickenbestimmung mit Röntgenreflektometrie (XRR)
Größenbestimmung von Nanopartikeln mit Röntgenkleinwinkelstreuuung (SAXS)
Untersuchung von nanostrukturierten Oberflächen mit Röntgenstreuung (GISAXS)
Entwicklung und Anwendung von referenzprobenfreier Röntgenfluoreszenzanalyse für die Materialanalytik

Nachrichten

Intensität der Undulatorstrahlung der einzelnen Elektronenpakete, gemessen mit einer Fotodiode auf der zweiten Harmonischen bei der Wellenlänge 532 nm.

In Kooperation mit dem Helmholtz-Zentrum Berlin (HZB) und der Tsinghua-Universität Peking wurde an der Metrology Light Source (MLS), dem Elektronenspeicherring der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt in Berlin, der Machbarkeitsnachweis für die erste Stufe des sogenannten „Steady State Micro Bunching“ (SSMB) erfolgreich erbracht. Es konnte damit erstmals an einem Speicherring gezeigt werden,...

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Metrologie mit Synchrotronstrahlung für die Halbleiterfertigung

Die Ankündigung der großen Halbleiterproduzenten Samsung und TSMC im Herbst 2018, EUV-Lithografie (EUVL) für die Herstellung ihrer High-End-Prozessoren einzusetzen, markiert den kommerziellen Durchbruch dieser Technologie nach einer langen Phase der Vorlaufforschung. Die PTB unterstützt bereits seit zwanzig Jahren die Entwicklung von...

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Die zunehmende Komplexität von nano-strukturierten Oberflächen bei technologischen Anwendungen ist eine enorme Herausforderung auch für deren metrologische Charakterisierung. Besonders in der Halbleiterindustrie sind hochkomplexe und mehrdimensionale Nanostrukturen, die aus unterschiedlichen Materialien zusammengesetzt sind, von großer Bedeutung. Im PTB-Laboratorium am Elektronenspeicherring BESSY...

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