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EUV-Nanometrologie

Arbeitsgruppe 7.14

Profil

Die EUV-Nanometrologie Arbeitsgruppe beschäftigt sich mit der Entwicklung neuer Messtechniken im Bereich der Synchrotronstrahlung für die Charakterisierung nanostrukturierter Oberflächen. Ein Schwerpunkt bildet dabei die dimensionelle Rekonstruktion optischer Komponenten für die Halbleiterlithographie. Hierfür werden im Wellenlängenbereich von 0.2 nm bis 20 nm verschiedene experimentelle Techniken an den PTB eigenen Strahlrohren bei BESSY II und der MLS miteinander kombiniert. Neben Lichtstreuung und Reflektion (GISAXS, EUV-SAS, Scatterometry, XRR) werden zunehmend auch Sekundäreffekte wie Fluoreszenz Strahlung mit einbezogen (GIXRF, XRF) um die immer komplexer aufgebauten Nanostrukturen elementsensitiv untersuchen zu können. 

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Forschung/Entwicklung

    • Charakterisierung nanostrukturierter Oberflächen mittels Lichtstreuung und Fluoreszenzanregung
    • Dimensionelle Rekonstruktion von 2D und 3D Nanostrukturen
    • Statistische Validierung von Unsicherheiten durch bayessche Statistikverfahren
    • Untersuchung von prozessbedingten Rauhigkeiten und ihrem Einfluss auf die Rekonstruktion
    • Bestimmung von optischen Konstanten im weichen Röntgenbereich
    • Weiterentwicklung von theoretischen Modellen für die Streuung und der Optimierungsverfahren

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    Dienstleistungen

    EUVR, EUV-SAS

    Bei der EUVR werden ähnlich wie bei der Röntgenreflektometrie die Reflektivitäten von Schichtstapeln Winkel- und Energieabhängig untersucht. Die Reflektometrie ist die Hauptmethode zur „At-Wavelength-Untersuchung“ von Komponenten für die EUV Lithographie bei der PTB...

     

    GISAXS

    GISAXS ist eine moderne zerstörungsfreie Messtechnik zur Untersuchung von nanostrukturierten Oberflächen. In einem GISAXS Experiment wird eine nanostrukturierte Probe mit Röntgenstrahlen unter streifendem Einfall beleuchtet und die Winkelverteilung der reflektierten und gestreuten Röntgenphotonen bestimmt...

     

     

    GIXRF

    Bei der Röntgenfluoreszenzanalyse werden durch einfallende Röntgenphotonen Elektronen aus inneratomaren Schalen angeregt. Der anschließende Zerfall dieser angeregten Zustände führt zur Emission elementspezifischer Röntgenfluoreszenzstrahlung...

     

    Numerische Simulationen

    Für die Modellierung der elektromagnetischen Wellen und die Wechselwirkungen mit den nanostrukturierten Oberflächen...

     

     

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    Informationen

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