Profil
- Entwicklung von Messgeräten und -verfahren für dimensionelle Messungen an 2D-Maßverkörperungen mit Mikrostrukturteilungen
- Untersuchung und Verbesserung von hochauflösenden Messverfahren zur Lokalisierung von Mikro- und Nanostrukturkanten
- Kalibrieren von Photomasken, Objektmikrometern, Gitterteilungen sowie sonstigen ebenen Messobjekten
Forschung/Entwicklung
Dimensionelle Metrologie an Photomasken- und Halbleiterstrukturen
Dimensionelle Metrologie mit dem Rasterelektronenmikroskop (REM)
- Entwicklung von anwendungsspezifischen Kantenoperatoren
- Untersuchungen zur Charakterisierung des Justagezustandes eines REM
- Untersuchung und Kalibrierung von nanostrukturierten Gitterteilungen
- Charakterisierung von REM-Scangeneratoren
Entwicklung von Strukturbreiten-Maskennormalen (CD-Normale)
Optische Längen- und x-y-Koordinatenmessung auf ebenen Messobjekten
- Nano3: Internationaler Strichmaßvergleich
- Untersuchungen zur Strukturbreiten-Maßübertragung
- Hochgenaue Längenmaßweitergabe auf 1D- und 2D-Objekten
- Untersuchungen an Normalen zur Bestimmung der lithografischen Verkleinerung
Rastersondenmikroskopie an größeren planaren Messobjekten
- Messtechnische Eigenschaften der Nanostation 300
- Entwicklung von kantensensitiven Messverfahren