Schichtdicke und kristalline Normale

Im Fokus der Arbeitsgruppe stehen die rückgeführte Messung von Schichtdicken im Bereich von wenigen Nanometern bis hin zum Mikrometerbereich und die Bereitstellung von entsprechenden Normalen und Kalibrierservices. Dazu wird eine Reihe von zertifizierten Normalen bereitgestellt und entwickelt.

Daneben können Tiefeneinstellnormale im Tiefenbereich von 0,75 µm bis 5000 µm mit taktilen Messverfahren kalibriert (Kalibrierung von Tiefeneinstellnormalen) werden. Zudem können präzisionsgedrehte Rillennormale über die Arbeitsgruppe bezogen werden. 

Durch die Entwicklung neuer Stufenhöhen- und Lateralnormale, basierend auf den selbstorganisierenden Eigenschaften kristalliner Materialien, werden Vorbereitungen getroffen, die zur Zeit fehlenden Normale für den Subnanometerbereich (Stufenhöhen) und Lateralnormale im Bereich von 5 bis 50 nm herzustellen, zu charakterisieren und als zertifizierte Normale für die Anwendung zu etablieren. Diese Arbeiten werden im Rahmen eines europäischen Verbundprojekts (JRP SIB 61 - Crystalline surfaces, self assembled structures, and nano-origami as length standards in (nano)metrology) mit Partnern aus  verschiedenen europäischen Staatsinstituten und der Industrie vorangetrieben.

Für die Entwicklung der Nanotechnologie ist die Verfügbarkeit einer zuverlässigen Messtechnik und rückgeführter Normale erforderlich. Fundamentale Bedeutung kommt hierbei der Längenmessung im Nanometer- und Mikrometerbereich zu.