Der Fachbereich Oberflächenmesstechnik betreibt industrienahe Forschung und Entwicklung zu taktilen und optischen Oberflächentexturmessverfahren mit dem Ziel, zukünftig auch optische Messmikroskope für Rauheitsmessungen einsetzen zu können. Darüber hinaus werden neue Kalibriernormale auf Basis von Siliziumkristallen und neue Messverfahren mit Hilfe von Mikro-Elektro-Mechanischen Systemen (MEMS) entwickelt.

Der Fachbereich ist zuständig für die Kalibrierung

• von Raunormalen und Tiefeneinstellnormalen bis 5 mm Tiefe
• der Schichtdicke
• von Härtevergleichsplatten und
• der Biegesteifigkeit von AFM-Cantilevern und von Referenzfedern

Der Fachbereich

• beteiligt sich an der Erarbeitung von Normen und Richtlinien für die Oberflächenmesstechnik, sowohl auf internationaler Ebene im ISO/TC 213 und bei der IMEKO als auch in nationalen Gremien des DIN, VDI und DKD
• betreibt und unterstützt die Entwicklung von Normalen und Prüfkörpern im Bereich der Oberflächenmesstechnik, d.h. für taktile-, optische- und rasterkraftmikroskopische Verfahren sowie für die Härte- und Schichtdickenmesstechnik
• ist aktiv im Bereich der Forschung und Entwicklung neuer Messgeräte und Messverfahren sowie Algorithmen zur Analyse von Daten und der Modellierung von Messverfahren.

Monoatomare Stufenhöhennormale

Verfahrensprozess und Messmöglichkeiten an monoatomaren Stufen auf ansonsten atomar glatten Si-Oberflächen. Abteilungsnachrichten

Optische Rauheitsmesstechnik

Entwicklung von Richtlinien für die Konfiguration von optischen Oberflächenmessgeräten für die Messung von Rauheit Abteilungsnachrichten

Taktile Mikro-Elektro-Mechanische Systeme (MEMS)

Entwicklung von Messverfahren für die Messung der dynamischen mechanischen Eigenschaften von Oberflächen. Abteilungsnachrichten

Softwareentwicklung zur Rauheitskenngrößenbestimmung

Entwicklung von Software zur Bestimmung von Rauheitskenngrößen aus Oberflächenmessungen.

NanoScale 2023 findet vom 10. bis 12. Oktober 2023 in Helsinki statt

Nach 4-jähriger Pandemie-bedingter Pause laden wir alle an (dimensioneller) Nano- und Mikrometrologie Interessierten zur NanoScale 2023 nach Helsinki (Finnland) sein. Schwerpunkte sind Rastersondenmikroskopie (SPM, v. a. AFM), optische Oberflächenmessverfahren (wie CLSM, CSI, FV etc.) und elektronenmikroskopische Techniken (SEM,TEM, TSEM). Die Tagung wird von der PTB (Fachbereich 5.1) gemeinsam mit den Kolleginnen und Kollegen des VTT-Mikes und dem EURAMET TC Length organisiert und findet vom 10. bis 12. Oktober 2023 im Veranstaltungszentrum Technopolis Ruoholahti am Rande der Innenstadt direkt am Ufer der Ostsee statt. Nähere Information auf www.nanoscale.de

Neues Tastspitzenprüfnormal entwickelt

In Zusammenarbeit mit dem Fachbereich 5.2 Dimensionelle Nanometrologie wurde ein Siliziumnormal mit rechteckförmigen Rillen und sehr scharfen Kanten zur Messung des Spitzenradius von Tastspitzen entwickelt. Spitzenradius und Spitzenform können über die Einsinktiefe der Spitzen bei der Messung der unterschiedlich breiten Rillen oder über die direkte Abbildung der Spitzen an den Kanten des Tastspitzenprüfnormals bestimmt werden.