
Aufgaben
Fachbereich 5.1 Oberflächenmesstechnik entwickelt taktile Silizium-Mikrotaster für hohe Abtastgeschwindigkeiten, MEMS-Mikrotaster für die Messung oberflächennaher mechanischer Eigenschaften, modelliert optische Mikroskope mit dem Ziel der Rauheitsmessung und entwickelt Verfahren zur Herstellung kristalliner Silizium-Normale für die Nanometrologie.
Darüber hinaus ist der Fachbereich zuständig für die Kalibrierung
- von
Stufenhöhen- und Tiefeneinstellnormalen
- von
Radiennormalen
- von
Raunormalen
- von
Härtevergleichsplatten
- der
Schichtdicke
- der
Biegesteifigkeit von Cantilevern und der Steifigkeit von MEMS
Dieser Fachbereich ...
- beteiligt sich an der Erarbeitung von Normen und Richtlinien für die Oberflächenmesstechnik, sowohl auf internationaler Ebene im ISO/TC 213 und IMEKO als auch in nationalen Gremien des VDI, DKD und DIN,
- betreibt und unterstützt die Entwicklung von Normalen und Prüfkörpern im Bereich der Oberflächenmesstechnik, d.h. für taktile-, optische- und rasterkraftmikroskopische Verfahren sowie für die Härte- und Schichtdickenmesstechnik,
- ist aktiv im Bereich der Forschung und Entwicklung neuer Messgeräte und Messverfahren sowie Algorithmen zur Analyse für die Auswertung von Daten.
Forschung
Profilscanner mit Si-Mikrotaster
Schnelle Oberflächenmessungen (Rauheit, E-Modul, Härte, Ablagerungen) mit Si-Mikrotastern in Einspritzdüsen, Gas- und Flüssigkeitsdüsen.
- Lichtinduzierte Kraft
- Nachweis der theoretisch vorhergesagten Lichtanziehung zischen planparallelen Platten mit geringem Abstand.
- Monoatomare Stufenhöhennormale
- Verfahrensprozess und Messmöglichkeiten an monoatomaren Stufen auf ansonsten atomar glatten Si-Oberflächen.
- Laterale Auflösungsnormale
- Geometrie, Herstellung, Messung und Auswerteverfahren lateraler Auflösungsnormale für die Mikroskopie und taktile Messverfahren.
Softwareentwicklung zur Rauheitskenngrößenbestimmung
- Entwicklung von Software zur Bestimmung von Rauheitskenngrößen aus Oberflächenmessungen.
Informationen
Neues Tastspitzenprüfnormal entwickelt
In Zusammenarbeit mit dem Fachbereich 5.2 Dimensionelle Nanometrologie wurde ein Siliziumnormal mit rechteckförmigen Rillen und sehr scharfen Kanten zur Messung des Spitzenradius von Tastspitzen entwickelt. Spitzenradius und Spitzenform können über die Einsinktiefe der Spitzen bei der Messung der unterschiedlich breiten Rillen oder über die direkte Abbildung der Spitzen an den Kanten des Tastspitzenprüfnormals bestimmt werden.