Fachbereich 5.1 Oberflächenmesstechnik entwickelt taktile Silizium-Mikrotaster für hohe Abtastgeschwindigkeiten, MEMS-Mikrotaster für die Messung oberflächennaher mechanischer Eigenschaften, modelliert optische Mikroskope mit dem Ziel der Rauheitsmessung und entwickelt Verfahren zur Herstellung kristalliner Silizium-Normale für die Nanometrologie.

Darüber hinaus ist der Fachbereich zuständig für die Kalibrierung

• von Tiefeneinstellnormalen und Stufenhöhen
• von Radiennormalen
• von Raunormalen
• von Härtevergleichsplatten 
• der Schichtdicke 
• der Biegesteifigkeit von Cantilevern und der Steifigkeit von MEMS

Dieser Fachbereich ...

• beteiligt sich an der Erarbeitung von Normen und Richtlinien für die Oberflächenmesstechnik, sowohl auf internationaler Ebene im ISO/TC 213 und IMEKO als auch in nationalen Gremien des VDI, DKD und DIN,
• betreibt und unterstützt die Entwicklung von Normalen und Prüfkörpern im Bereich der Oberflächenmesstechnik, d.h. für taktile-, optische- und rasterkraftmikroskopische Verfahren sowie für die Härte- und Schichtdickenmesstechnik,
• ist aktiv im Bereich der Forschung und Entwicklung neuer Messgeräte und Messverfahren sowie Algorithmen zur Analyse für die Auswertung von Daten.

Profilscanner mit Si-Mikrotaster

Schnelle Oberflächenmessungen (Rauheit, E-Modul, Härte, Ablagerungen) mit Si-Mikrotastern in Einspritzdüsen, Gas- und Flüssigkeitsdüsen.

Lichtinduzierte Kraft

Nachweis der theoretisch vorhergesagten Lichtanziehung zischen planparallelen Platten mit geringem Abstand.

Monoatomare Stufenhöhennormale

Verfahrensprozess und Messmöglichkeiten an monoatomaren Stufen auf ansonsten atomar glatten Si-Oberflächen.

Laterale Auflösungsnormale

Geometrie, Herstellung, Messung und Auswerteverfahren lateraler Auflösungsnormale für die Mikroskopie und taktile Messverfahren.

Softwareentwicklung zur Rauheitskenngrößenbestimmung

Entwicklung von Software zur Bestimmung von Rauheitskenngrößen aus Oberflächenmessungen.

Neues Tastspitzenprüfnormal entwickelt

In Zusammenarbeit mit dem Fachbereich 5.2 Dimensionelle Nanometrologie wurde ein Siliziumnormal mit rechteckförmigen Rillen und sehr scharfen Kanten zur Messung des Spitzenradius von Tastspitzen entwickelt. Spitzenradius und Spitzenform können über die Einsinktiefe der Spitzen bei der Messung der unterschiedlich breiten Rillen oder über die direkte Abbildung der Spitzen an den Kanten des Tastspitzenprüfnormals bestimmt werden.