Aufgaben
Der Fachbereich 5.1 - „Oberflächenmesstechnik“
entwickelt taktile Silizium-Mikrotaster für hohe Abtastgeschwindigkeiten, MEMS-Mikrotaster für die Messung oberflächennaher mechanischer Eigenschaften, modelliert optische Mikroskope mit dem Ziel der Rauheitsmessung und entwickelt Verfahren zur Herstellung kristalliner Silizium-Normale für die Nanometrologie.
Darüber hinaus ist der FB zuständig für
· die Rückführung von Längenmessungen und von Kenngrößen in der Oberflächenmesstechnik,
· die Kalibrierung von 
Stufen- und Tiefeneinstellnormalen
· die Kalibrierung von Radiennormalen
· die Kalibrierung von Raunormalen
· die Kalibrierung von Härtevergleichsplatten
· die Kalibrierung der Schichtdicke
· die Kalibrierung der Biegesteifigkeit von Cantilevern und der Steifigkeit von MEMS
Der FB betreibt und unterstützt die Entwicklung von Normalen und Prüfkörpern im Bereich der Oberflächenmesstechnik, d.h. für taktile-, optische- und rasterkraftmikroskopische Verfahren sowie für die Härte- und Schichtdickenmesstechnik.
Er ist aktiv im Bereich der Forschung und Entwicklung neuer Messgeräte und Messverfahren sowie Algorithmen zur Analyse für die Auswertung von Daten.
Forschung
- Profilscanner mit Si-Mikrotaster
Schnelle Oberflächenmessungen (Rauheit, E-Modul, Härte, Ablagerungen) mit Si-Mikrotastern in Einspritzdüsen, Gas- und Flüssigkeitsdüsen.
- Lichtinduzierte Kraft
- Nachweis der theoretisch vorhergesagten Lichtanziehung zischen planparallelen Platten mit geringem Abstand.
- Monoatomare Stufenhöhennormale
- Verfahrensprozess und Messmöglichkeiten an monoatomaren Stufen auf ansonsten atomar glatten Si-Oberflächen.
- Laterale Auflösungsnormale
- Geometrie, Herstellung, Messung und Auswerteverfahren lateraler Auflösungsnormale für die Mikroskopie und taktile Messverfahren.
- Softwareentwicklung zur Rauheitskenngrößenbestimmung
- Entwicklung von Software zur Bestimmung von Rauheitskenngrößen aus Oberflächenmessungen.
Arbeitsgruppen
Informationen
Neues Tastspitzenprüfnormal entwickelt
Im Fachbereich 5.2 Dimensionelle Nanometrologie wurde ein Siliziumnormal mit rechteckförmigen Rillen und sehr scharfen Kanten zur Messung des Spitzenradius von Tastspitzen entwickelt. Spitzenradius und Spitzenform können über die Einsinktiefe der Spitzen bei der Messung der unterschiedlich breiten Rillen oder über die direkte Abbildung der Spitzen an den Kanten bestimmt werden.
Der Fachbereich 5.1 - „Oberflächenmesstechnik“ entwickelt taktile Silizium-Mikrotaster für hohe Abtastgeschwindigkeiten, MEMS-Mikrotaster für die Messung oberflächennaher mechanischer Eigenschaften, modelliert optische Mikroskope mit dem Ziel der Rauheitsmessung und entwickelt Verfahren zur Herstellung kristalliner Silizium-Normale für die Nanometrologie.
Darüber hinaus ist der FB zuständig für
· die Rückführung von Längenmessungen und von Kenngrößen in der Oberflächenmesstechnik,
· die Kalibrierung von Stufen- und Tiefeneinstellnormalen INCLUDEPICTURE "N:\\Abt_5\\5\\5-1\\5-1-alle\\FB-Intern\\www_Webseiten 5.1\\10_Brand\\5.1 Oberfl%C3%A4chenmesstechnik - PTB.de-Dateien\\internal_link.gif" \* MERGEFORMAT \d \x \y
· die Kalibrierung von Radiennormalen
· die Kalibrierung von Raunormalen INCLUDEPICTURE "N:\\Abt_5\\5\\5-1\\5-1-alle\\FB-Intern\\www_Webseiten 5.1\\10_Brand\\5.1 Oberfl%C3%A4chenmesstechnik - PTB.de-Dateien\\internal_link.gif" \* MERGEFORMAT \d \x \y
· die Kalibrierung von Härtevergleichsplatten INCLUDEPICTURE "N:\\Abt_5\\5\\5-1\\5-1-alle\\FB-Intern\\www_Webseiten 5.1\\10_Brand\\5.1 Oberfl%C3%A4chenmesstechnik - PTB.de-Dateien\\internal_link.gif" \* MERGEFORMAT \d \x \y
· die Kalibrierung der Schichtdicke INCLUDEPICTURE "N:\\Abt_5\\5\\5-1\\5-1-alle\\FB-Intern\\www_Webseiten 5.1\\10_Brand\\5.1 Oberfl%C3%A4chenmesstechnik - PTB.de-Dateien\\internal_link.gif" \* MERGEFORMAT \d \x \y
· die Kalibrierung der Biegesteifigkeit von Cantilevern und der Steifigkeit von MEMS
Der FB betreibt und unterstützt die Entwicklung von Normalen und Prüfkörpern im Bereich der Oberflächenmesstechnik, d.h. für taktile-, optische- und rasterkraftmikroskopische Verfahren sowie für die Härte- und Schichtdickenmesstechnik.
Er ist aktiv im Bereich der Forschung und Entwicklung neuer Messgeräte und Messverfahren sowie Algorithmen zur Analyse für die Auswertung von Daten.