Profil
In der Arbeitsgruppe werden höchstauflösende optische Messverfahren zur Messung der Größen von Mikro- und Nanostrukturen auf Oberflächen mit Strukturgrößen bis in den Sub-100 nm-Bereich entwickelt, untersucht und für rückgeführte Messungen und Kalibrierungen angewand.
Diese Messverfahren werden beispielsweise in der Halbleiterindustrie bei der lithographischen Herstellung von elektronischen Bauelemente, in der optischen Industrie zur Charakterisierung diffraktiver (beugender) optischer Elemente sowie im Bereich moderner Nanotechnologien benötigt. Eine wichtige Anwendung ist hierbei die Messung und Kalibrierung von Strukturen auf Photomasken für die Halbleiterindustrie.
Wesentliche Ziele hierbei sind die Verbesserung der Genauigkeit und Effizienz der Messverfahren und die Entwicklung optischer Messverfahren, die auch sehr kleine Strukturen mit Größen weit unter der klassischen Auflösungsgrenze der optischen Mikroskopie (Rayleigh-Grenze) messen können.
Damit sollen sowohl messtechnische Voraussetzungen für zukünftige Anforderungen der genannten Industrien als auch der Grundlagenforschung geschaffen werden.
Forschung/Entwicklung
Themen
- Entwicklung und Verbesserung optisch-mikroskopischer Verfahren zur
dimensionalen Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen:
- Neuartige überauflösende Dunkelfeldverfahren: AGID-Mikroskopie
- Höchstauflösende Mikroskopie im tiefen UV: DUV-Mikroskopie - Grundlagenuntersuchung zur Entwicklung optischer Metrologie jenseits der klassischen räumlichen Auflösungsgrenzen
- Entwicklung und Kalibrierung von Referenzstrukturen Normale für die Mikro- und Nanometrologie
- Winkelabhängige Streulichtmessungen (Goniometrische Scatterometrie) für dimensionale Messungen von periodischen Mikro- und Nanostrukturen
- Messung von Gitterkonstanten mittels optischer Beugung
- Wellenlängenabhängige Messungen der Polarisationseigenschaften von strukturierten Oberflächen zur Charakterisierung der Oberflächenstrukturen mittels spektroskopischer Ellipsometrie und Müller-Polarimetrie
- Entwicklung von optischen Messverfahren zur Charakterisierung von Strukturen mit Dimensionen, welche sehr viel kleiner sind als die verwendete optische Wellenlänge:
Optisch Sub-Wellenlängen-Metrologie bzw. Nanometrologie
- Untersuchung und Modellierung der Wechselwirkungen von nano-skaligen Strukturen mit elektromagnetischer Strahlung einschließlich der Beleuchtungs-, Detektions- und Abbildungseigenschaften der verschiedenen Messsysteme und -verfahren im Hinblick auf Anwendungen für höchstauflösende Messverfahren in enger Zusammenarbeit mit der PTB-Arbeitsgruppe Modellierung und Simulation
Projekte
Die Arbeitsgruppe kooperiert in Forschungsvorhaben mit internationalen Partnern aus Industrie, Universitäten, Forschungseinrichtungen sowie Metrologieinstituten.
Aktuelle Projekte:
EMPIR 17FUN01: Light-matter interplay for optical metrology beyond the classical spatial resolution limits
EMPIR 19ENG05 High throughput metrology for nanowire energy harvesting devices
BMBF-Projekt Simulation und Maschinelles Lernen für die hochgenaue dimensionale Mikroskopie
EMPIR 20FUN02 Pushing boundaries of nano-dimensional metrology by light
EMPIR 20IND04 Traceable metrology of soft-X-ray to IR optical constants and nanofilms for advanced manufacturing
EMPIR 20IND04 Metrology in manufacturing compound semiconductors for power electronics
Dienstleistungen
- Kalibrierung von Strukturbreiten (300 nm – 200 µm)
- Kalibrierung von Gitterkonstanten (144 nm – 4 µm) mit optischer Beugung
- Kalibrierung von Strukturabständen (Pitchmaß) mittels UV-Mikroskopie (450 nm - 200 μm)
Weitere Informationen:
Nr. 40, 42 und 128 der Mess- und Kalibriermöglichkeiten der Abteilung Optik
Informationen
- Übersicht über Normale für die Nanometrologie
http://www.nanoscale.ptb.de/nanoscale/nanoscale-standards.html
http://www.nano-refmat.bam.de/en/
- Kalibrierungen von Strukturbreiten auf Photomasken werden mit reduzierter Messunsicherheit auch vom akkreditierten DAkkS-Laboratorium in Zusammenarbeit mit der PTB angeboten: Vistec Electron Beam GmbH in Jena
- Organisation und Leitung der zweijährlichen SPIE-Konferenz
Modelling Aspects in Optical Metrology in München
(21 - 24 June 2021, technical programme)
- Organisation und Leitung der zweijährlichen EOS-Konferenz Frontiers in Optical Metrology
(07. – 11. September 2020 online, technisches Programm)
Nächste Frontiers in Optical Metrology: 2022