Profil
In der Arbeitsgruppe werden Messverfahren zur hochgenauen Ebenheitsmessung von Planflächen entwickelt und u.a. für Kalibrierungen genutzt. Dazu werden deflektometrische und interferometrische Methoden eingesetzt. Weiterhin werden neue Verfahren zur absoluten Messung optischer Wellenfronten entwickelt und zur Charakterisierung von Wellenfrontsensoren (z.B. Shack-Hartmann-Sensoren) genutzt.
Im Rahmen einer aktuellen Forschungskooperation mit der European X-Ray Free-Electron Laser Facility (XFEL, Hamburg) werden die Messverfahren weiterentwickelt zur nanometergenauen Formmessung auch schwach gekrümmter Spiegel. In anderen Forschungsprojekten werden neuartige interferometrische Ansätze (Shearing-Verfahren und Multiapertur-Interferometrie) auf ihre Eignung zur hochgenauen Formmessung untersucht.
Forschung/Entwicklung
Themen
- Deflektometrisches Ebenheitsmesssystem
- Extended Shear Angle Difference (ESAD)-Messanlage zur Ebenheitsmessung
- Traceable Multi Sensor-Verfahren (TMS) zur Formmessung gekrümmter optischer Oberflächen
- Wellenfrontmetrologie
- Entwicklung von mathematischen Modellen der Messysteme in enger Zusammenarbeit mit der PTB-AG Datenanalyse und Messunsicherheit
Projekte / Kooperationen
Die Arbeitsgruppe kooperiert mit internationalen Partnern aus Industrie, Universitäten, Forschungseinrichtungen sowie Metrologieinstituten.
- Kooperation mit dem XFEL Hamburg
- Ringvergleiche zur Ebenheitsmessung
- DFG-Projekt: Formmessung an Präzisionsbauteilen mit einem dynamisch nachgeführten interferometrischen Zeilensensor
- DFG-Projekt: Optische Oberflächenerfassung mit räumlich und zeitlich partiell kohärenten Lichtwellenfeldern (OPAL)
Dienstleistungen
Die Arbeitsgruppe bietet folgende Kalibrierungen an:
- Interferometrische Ebenheitsmessung
- Deflektometrische Ebenheitsmessung