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Ebenheitsmetrologie

Arbeitsgruppe 4.22

Profil

In der Arbeitsgruppe werden optische Messsysteme zur hochgenauen Ebenheitsmessung von Planflächen bereitgestellt und weiterentwickelt, um u. a. hochgenaue Kundenkalibrierungen durchzuführen. Diese Systeme basieren auf deflektometrischen und interferometrischen Methoden. Um den Bedarf an Messungen größerer Planflächen (Durchmesser bis 1,5 m) abzudecken, wird zurzeit ein neues Messsystem aufgebaut. Dieses Messsystem wird nicht nur zur Messung von Planflächen, sondern auch von schwach gekrümmten Freiformflächen einsetzbar sein.
 
Im Rahmen einer Forschungskooperation mit der European X-Ray Free-Electron Laser Facility (XFEL, Hamburg) werden Messverfahren zur nanometergenauen Formmessung an schwach gekrümmten Spiegel entwickelt, aufgebaut und Vergleichsmessungen durchgeführt. In Forschungsprojekten bspw. mit universitären Partnern werden neuartige interferometrische Ansätze (Shearing-Verfahren und Multiapertur-Interferometrie) auf ihre Eignung zur hochgenauen Formmessung untersucht.

Zwei PTB-Messsysteme nehmen zurzeit an einem internationalen Ringvergleich zur hochgenauen optischen Ebenheitsmessung von Planflächen mit 300 mm Durchmesser teil.

Zusätzlich werden Verfahren zur absoluten Messung optischer Wellenfronten entwickelt und zur Charakterisierung von Wellenfrontsensoren (z. B. Shack-Hartmann-Sensoren) genutzt.

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Forschung/Entwicklung

Themen

 

Projekte / Kooperationen

Die Arbeitsgruppe kooperiert mit internationalen Partnern aus Industrie, Universitäten, Forschungseinrichtungen sowie Metrologieinstituten.

Abgeschlossene Projekte

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    Dienstleistungen

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    Informationen

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