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Ebenheitsmetrologie

Arbeitsgruppe 4.22

Profil

In der Arbeitsgruppe werden Messverfahren zur hochgenauen Ebenheitsmessung von Planflächen entwickelt und u.a. für Kalibrierungen genutzt. Dazu werden deflektometrische und interferometrische Methoden eingesetzt. Weiterhin werden neue Verfahren zur absoluten Messung optischer Wellenfronten entwickelt und zur Charakterisierung von Wellenfrontsensoren (z.B. Shack-Hartmann-Sensoren) genutzt.

Im Rahmen einer aktuellen Forschungskooperation mit der European X-Ray Free-Electron Laser Facility (XFEL, Hamburg) werden die Messverfahren weiterentwickelt zur nanometergenauen Formmessung auch schwach gekrümmter Spiegel. In anderen Forschungsprojekten werden neuartige interferometrische Ansätze (Shearing-Verfahren und Multiapertur-Interferometrie) auf ihre Eignung zur hochgenauen Formmessung untersucht.

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Forschung/Entwicklung

Themen

  • Deflektometrisches Ebenheitsmesssystem
  • Extended Shear Angle Difference (ESAD)-Messanlage zur Ebenheitsmessung
  • Traceable Multi Sensor-Verfahren (TMS) zur Formmessung gekrümmter optischer Oberflächen
  • Wellenfrontmetrologie
  • Entwicklung von mathematischen Modellen der Messysteme in enger Zusammenarbeit mit der PTB-AG Datenanalyse und Messunsicherheit

 

Projekte / Kooperationen

Die Arbeitsgruppe kooperiert mit internationalen Partnern aus Industrie, Universitäten, Forschungseinrichtungen sowie Metrologieinstituten.

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Dienstleistungen

Die Arbeitsgruppe bietet folgende Kalibrierungen an:

  • Interferometrische Ebenheitsmessung
  • Deflektometrische Ebenheitsmessung

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