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Bild- und Wellenoptik

Fachbereich 4.2

Aufgaben

Es gibt folgende Aufgabenschwerpunkte im Fachbereich:

Messung der Form optisch glatter Oberflächen

Mit optischen Methoden (Interferometrie, Deflektometrie) wird die Form optisch glatter Oberflächen mit Unsicherheiten in der Größenordnung von wenigen zehn Nanometern bis hinab zu einzelnen Nanometern je nach Oberflächenform gemessen. Das Anwendungsspektrum reicht von Planflächen, Sphären, Asphären bis hin zu Freiformflächen.

Charakterisierung optischer Komponenten und optischer Wellenfronten
Kenngrößen optischer Komponenten (Brechzahl von Gläsern und Flüssigkeiten, optische Drehung von Quarzkontrollplatten, Modulationsübertragungsfunktion von Objektiven u.a.m.) werden hochgenau gemessen. Weiterhin werden optische Wellenfrontsensoren charakterisiert und kalibriert.

Messung von Größe und Form mikroskopischer Oberflächenstrukturen
Es werden Größe und Form von Mikro- und Nanostrukturen auf Oberflächen gemessen. Die Abmaße der Strukturen reichen hierbei von wenigen 100 µm bis in den Sub-100 nm-Bereich. Dazu werden sowohl lichtmikroskopische als auch nichtabbildende optische Verfahren (Scatterometrie, Diffraktometrie, Ellipsometrie) vom sichtbaren bis in den tiefen ultravioletten Spektralbereich eingesetzt.

Messung des Gitterparameters von kristallinem Silizium
In einem Grundlagenexperiment wird mit größtmöglicher Genauigkeit der Gitterparameter hochreiner und nahezu perfekter Silizium-Kristalle gemessen. Dazu wird eine Kombination aus einem optischen und einem Röntgeninterferometer entwickelt und eingesetzt.

In diesen vier Aufgabenschwerpunkten werden Grundlagenuntersuchungen durchgeführt, Messverfahren entwickelt und Messungen und Kalibrierungen für Industrie und Wissenschaft ausgeführt. Forschungsprojekte werden oft in Zusammenarbeit mit der Industrie durchgeführt.

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