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Neues Elektronenstrahllithographiesystem im Reinraumzentrum der PTB

18.02.2005

In der PTB kommen seit etwa 12 Jahren Elektronenstrahl-Lithographiesysteme zum Einsatz, um Strukturen im sub-μm-Bereich zu erzeugen. Darüber hinaus werden die Systeme eingesetzt, um Fotomasken für die optische Lithographie herzustellen. Die Einsatzbereiche umfassen im wesentlichen Schaltungen für die Untersuchung des Einzelelektronentunneleffektes und des Josephson-Spannungsnormals. Im Rahmen einer Modernisierungsmaßnahme wurde das vorhandene System ersetzt. Bei dem neu beschafften Gerät handelt es sich um ein Gerät der Firma Leica (Modell EBPG 5000+). Infolge der höheren Beschleunigungsspannung von 100 kV und der Verwendung einer Feldemissionskathode sind minimale Strukturbreiten bis hinunter zu 10 nm möglich. In ersten Belichtungsversuchen wurden 10 nm Strukturen in HSQ (Hydrogen silsesquioxane)erzeugt, was einer um den Faktor 3 höheren Auflösung gegenüber dem alten System entspricht. Weiterhin ermöglicht die höhere maximale Schreibfrequenz von 25 MHz einengrößeren Probendurchsatz. Durch die Neubeschaffung ist es der PTB möglich, auch in Zukunft die notwendigen Anforderungen im Bereich der Nanolithograhie zu erfüllen. 


Elektronenstrahllithographiesystem Leica EBPG 5000+


10 nm Linien in HSQ