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Symbolbild "Zeitschriften"

Analyse von Fotomasken

Lizenz verfügbar
Besonders interessant für:
  • Interferometrie
  • Qualitätssicherung

Fizeau-Interferometer werden wegen ihres stabilen Aufbaus zur Bestimmung der Topografie von Oberflächen eingesetzt. Ein auf der Fachmesse Optatec 2012 vorgestelltes Verfahren gestattet es, auch Oberflächen mit unterschiedlichem Reflexionsgrad, wie sie auf lithografischen Masken auftreten, in einfacher Weise zu analysieren. Es kann auch auf dynamische Messungen erweitert werden. Bisher musste zur Oberflächenanalyse für jeden Reflexionsgrad das Interferometer an Referenznormalen vorab kalibriert werden. Das Verfahren nutzt eine neue Generation kommerziell verfügbarer Strahlteiler – auch als „On-axis“-Strahlteiler bezeichnet –, die entlang der optischen Achse zu einer Separation der Polarisationsrichtungen des eingestrahlten Lichtes führt. Unabhängig vom Reflexionsgrad der Probenoberfläche ergibt sich damit immer Maximalkontrast. Die erhöhte Messdynamik macht auch eine Messung in schwingungsbelasteten Umgebungen möglich. Das patentierte System ist insbesondere für Interferometer-Hersteller zur Eröffnung eines neuen Geschäftsfeldes interessant.