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Umzug des EUV-Reflektometers der PTB an das EUV-Strahlrohr der MLS

15.10.2013

Europäische Firmen sind weltweit führend bei der Entwicklung der EUV-Lithografie (EUVL), mit der ab etwa 2016 bei einer Wellenlänge von 13,5 nm Halbleiterchips hergestellt werden sollen. Die PTB unterstützt diese Entwicklung seit 1998 mit EUV-Messtechnik, ursprünglich  in ihrem Labor am Elektronenspeicherring BESSY I, seit 2000 bei BESSY II, um die Qualität der entsprechenden Optiken u. a. von der Firma Carl Zeiss ...

Europäische Firmen sind weltweit führend bei der Entwicklung der EUV-Lithografie (EUVL), mit der ab etwa 2016 bei einer Wellenlänge von 13,5 nm Halbleiterchips hergestellt werden sollen. Die PTB unterstützt diese Entwicklung seit 1998 mit EUV-Messtechnik, ursprünglich  in ihrem Labor am Elektronenspeicherring BESSY I, seit 2000 bei BESSY II, um die Qualität der entsprechenden Optiken u. a. von der Firma Carl Zeiss in den Lithografie-Maschinen  zu verbessern. Während der diesjährigen Shut-down- Periode von BESSY II im August und September wurde nun das dabei verwendete EUV-Reflektometer an die Metrology Light Source (MLS) transferiert und dort bereits Mitte September wieder in Betrieb genommen. Schon vor Ende des Shut-down bei BESSY II waren daher wieder erste Messungen für Industriekunden  (Charakterisierung von Photomasken für Toppan Photomasks Inc. in Dresden) möglich. Mit dem Umzug des EUV-Reflektometers an das EUV-Strahlrohr der PTB-eigenen MLS können diese Art von Messungen ab sofort kontinuierlich ohne Unterbrechungen durch Shut-down Perioden von BESSY II angeboten werden.

Ansprechpartner:

F. Scholze, 7.12, E-Mail: Opens window for sending emailFrank.Scholze(at)ptb.de