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Mathematische Modellierung und Datenanalyse

Fachbereich 8.4

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Beitrag zu Tagungsband

Titel: Untersuchungen zur Eignung der EUV-Scatterometrie zur quantitativen Charakterisierung periodischer Strukturen auf Photolithographiemasken
Autor(en): M. Wurm, B. Bodermann, F. Scholze, C. Laubis, H. Groß and A. Rathsfeld
Jahr: 2006
Buchtitel: DGaO-Proc.
Schlüsselwörter: 8.41,Scatter-Inv
Marker: 8.41,Scatter-Inv

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