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Mathematische Modellierung und Datenanalyse

Fachbereich 8.4

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Konferenz

Titel: Sensitivity analysis for the detection of pitchwalk in self- aligned quadruple patterning by GISAXS
Autor(en): M. Casfor Zapata, N. Farchmin, M. Pflüger, K. Nikolaev, V. Soltwisch, S. Heidenreich, C. Laube, M. Kolbe and F. Scholze
Jahr: 2020
Buchtitel: Proc. of SPIE
Band: 11325
SPIE
Konferenz Name: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIV
San Jose, USA
Konferenz Datum: 20.03.2020
DOI: 10.1117/12.2552037
Marker: 8.4,8.43,UQ

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