15.10.2013
Europäische Firmen sind weltweit führend bei der Entwicklung der EUV-Lithografie (EUVL), mit der ab etwa 2016 bei einer Wellenlänge von 13,5 nm Halbleiterchips hergestellt werden sollen. Die PTB unterstützt diese Entwicklung seit 1998 mit EUV-Messtechnik, ursprünglich in ihrem Labor am Elektronenspeicherring BESSY I, seit 2000 bei BESSY II, um die Qualität der entsprechenden Optiken u. a. von der Firma Carl Zeiss in den Lithografie-Maschinen zu verbessern. Während der diesjährigen Shut-down- Periode von BESSY II im August und September wurde nun das dabei verwendete EUV-Reflektometer an die Metrology Light Source (MLS) transferiert und dort bereits Mitte September wieder in Betrieb genommen. Schon vor Ende des Shut-down bei BESSY II waren daher wieder erste Messungen für Industriekunden (Charakterisierung von Photomasken für Toppan Photomasks Inc. in Dresden) möglich. Mit dem Umzug des EUV-Reflektometers an das EUV-Strahlrohr der PTB-eigenen MLS können diese Art von Messungen ab sofort kontinuierlich ohne Unterbrechungen durch Shut-down Perioden von BESSY II angeboten werden.
Ansprechpartner:
F. Scholze, 7.12, E-Mail: 
Frank.Scholze(at)ptb.de