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Erstes Licht am EUV-Strahlrohr der Metrology Light Source

29.11.2010

Abbildung 1: Strahlungsleistungsverteilung des fokussierten Strahls in der Austrittsspaltebene des neuen EUV-Strahlrohrs an der MLS, gemessen in der nullten spektralen Ordnung des Monochromatorgitters.

Die Bedeutung des elektromagnetischen Wellenlängenbereiches um 13,5 nm (EUV) resultiert aus dem geplanten Einsatz von EUV-Technologie für die zukünftige Fertigung von Halbleiterchips Die Charakterisierung von optischen Komponenten im EUV ist daher seit vielen Jahren ein Arbeitsschwerpunkt im PTB-Labor an der Synchrotronstrahlungsanlage BESSY II. Mit ihren Arbeiten für Firmen wie Zeiss SMT oder das AMTC in Dresden leistet die PTB einen wichtigen Beitrag für die Entwicklung dieser Zukunftstechnologie in Deutschland. Um die Messmöglichkeiten der PTB hier weiter zu verbessern, soll zukünftig die für diesen Spektralbereich optimierte Strahlung der Metrology Light Source (MLS) an einem neuen EUV-Strahlrohr genutzt werden. Im November 2010 wurde das erste monochromatisierte Licht in der Austrittsspaltebene des neuen Strahlrohres gemessen (Abbildung 1). Die Funktionsfähigkeit aller wesentlichen Komponenten des Strahlrohres ist damit gezeigt und ein wichtiger Meilenstein für dessen Inbetriebnahme erreicht. Mit der umfassenden Charakterisierung wird in den nächsten Monaten die Vorraussetzung für den Umzug des großen EUV-Reflektometers von BESSY II zur MLS geschaffen.

In der nullten spektralen Ordnung entsteht in der Ebene des Austrittsspalts ein Bild des Elektronenstrahls im Speicherring. Die Abmessungen des Bildes (2 mm Halbwertsbreite horizontal und 1 mm vertikal) entsprechen den erwarteten Werten aus dem Abbildungsmaßstab und den Abmessungen des Elektronenstrahls.

Ansprechpartner:

F. Scholze, 7.22, E-mail: frank.scholze(at)ptb.de