Publications 8.41
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Contribution to proceeding
| Title: | Untersuchungen zur Eignung der EUV-Scatterometrie zur quantitativen Charakterisierung periodischer Strukturen auf Photolithographiemasken |
|---|---|
| Author(s): | M. Wurm, B. Bodermann, F. Scholze, C. Laubis, H. Groß and A. Rathsfeld |
| Year: | 2006 |
| Book title: | DGaO-Proc. |
| Keywords: | 8.41,Scatter-Inv |
| Tags: | 8.41,Scatter-Inv |