Publikations Einzelansicht
Artikel
Titel: | Measurements of CD and sidewall profile of EUV photomask structures using CD-AFM and tilting-AFM |
---|---|
Autor(en): | G. Dai, K. Hahm, F. Scholze, M.-A. Henn, H. Groß, J. Fluegge and H. Bosse |
Journal: | Meas. Sci. Tech. |
Jahr: | 2014 |
Band: | 25 |
Ausgabe: | 4 |
Seite(n): | 044002 |
IOP Publishing | |
DOI: | 10.1088/0957-0233/25/4/044002 |
ISSN: | 0957-0233 |
Web URL: | http://iopscience.iop.org/article/10.1088/0957-0233/25/4/044002 |
Schlüsselwörter: | Scatterometrie |
Marker: | 8.41,Scatter-EUV |