Publikationen 8.41
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Beitrag zu Tagungsband
| Titel: | Untersuchungen zur Eignung der EUV-Scatterometrie zur quantitativen Charakterisierung periodischer Strukturen auf Photolithographiemasken |
|---|---|
| Autor(en): | M. Wurm, B. Bodermann, F. Scholze, C. Laubis, H. Groß and A. Rathsfeld |
| Jahr: | 2006 |
| Buchtitel: | DGaO-Proc. |
| Schlüsselwörter: | 8.41,Scatter-Inv |
| Marker: | 8.41,Scatter-Inv |