Profile
- Development of measuring instruments and procedures for the determination of the position of microstructureson 2D-substrates
- Investigation and improvement of optical and electron-optical measuring procedures for the localization of microstructure edges
- Calibration of photomasks, microscope scales, line scales and other graduations on planar measurement objects
Research/Development
Dimensionelle Metrologie an Photomasken- und Halbleiterstrukturen
Dimensionelle Metrologie mit dem Rasterelektronenmikroskop (REM)
- Entwicklung von anwendungsspezifischen Kantenoperatoren
- Untersuchungen zur Charakterisierung des Justagezustandes eines REM
- Untersuchung und Kalibrierung von nanostrukturierten Gitterteilungen
- Charakterisierung von REM-Scangeneratoren
Entwicklung von Strukturbreiten-Maskennormalen (CD-Normale)
Optische Längen- und x-y-Koordinatenmessung auf ebenen Messobjekten
- Nano3: Internationaler Strichmaßvergleich
- Untersuchungen zur Strukturbreiten-Maßübertragung
- Hochgenaue Längenmaßweitergabe auf 1D- und 2D-Objekten
- Untersuchungen an Normalen zur Bestimmung der lithografischen Verkleinerung
Rastersondenmikroskopie an größeren planaren Messobjekten
- Messtechnische Eigenschaften der Nanostation 300
- Entwicklung von kantensensitiven Messverfahren