13.10.2009
Die Abteilung Optik der PTB beteiligt sich an dem vom BMBF geförderten Projekt "Critical Dimension und Registration für die 32 nm Maskenlithographie". Zusammen mit Industriepartnern (AMTC Dresden, Vistec Semiconductor Systems Weilburg) und den PTB-Abteilungen 5, 7, und 8 werden neue Technologien für die Speicher- und Logik-Chip-Produktion der nächsten Generation entwickelt. In der Abteilung Optik werden dazu scatterometrische und mikroskopische Messverfahren erforscht. Nähere Informationen: http://www.ptb.de/de/aktuelles/archiv/presseinfos/pi2008/pitext/pi080813.html.
(B. Bodermann, FB 4.2, Bernd.Bodermann@ptb.de)