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Start eines BMBF-Verbundprojekts zur Entwicklung von Technologien und Messtechniken im Bereich höchstintegrierter Elektronik

13.10.2009

Die Abteilung Optik der PTB beteiligt sich an dem vom BMBF geförderten Projekt "Critical Dimension und Registration für die 32 nm Maskenlithographie". Zusammen mit Industriepartnern (AMTC Dresden, Vistec Semiconductor Systems Weilburg) und den PTB-Abteilungen 5, 7, und 8 werden neue Technologien für die Speicher- und Logik-Chip-Produktion der nächsten Generation entwickelt. In der Abteilung Optik werden dazu scatterometrische und mikroskopische Messverfahren erforscht. Nähere Informationen: http://www.ptb.de/de/aktuelles/archiv/presseinfos/pi2008/pitext/pi080813.html
(B. Bodermann, FB 4.2, Bernd.Bodermann@ptb.de)