Europäische Firmen sind weltweit führend bei der Entwicklung der EUV-Lithografie (EUVL), mit der ab etwa 2016 bei einer Wellenlänge von 13,5 nm Halbleiterchips hergestellt werden sollen. Die PTB unterstützt diese Entwicklung seit 1998 mit EUV-Messtechnik, ursprünglich in ihrem Labor am Elektronenspeicherring BESSY I, seit 2000 bei BESSY II, um die Qualität der entsprechenden Optiken u. a. von der...
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