Die EUV-Lithographie ermöglicht die Fortsetzung des Mooreschen Gesetzes

Festkolloquium zur Verabschiedung von Dr. Gerhard Ulm

Seit mehr als 50 Jahren treibt Moore’s Law die rasante Weiterentwicklung der Chip- Technologie an. Die großen Fortschritte in der Auflösung der Lithographie-Optik haben wesentlich dazu beigetragen.

Datum:	Do 04.04.2019 14:00
Ort:	Hermann-von-Helmholtz-Bau, Hörsaal, Berlin Videoübertragung nach Braunschweig, Kohlrausch-Bau, Hörsaal
Vortragender:	Winfried Kaiser
Institut:	Carl Zeiss Fellow, Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen
Kontakt:	Jacqueline Steffen
E-Mail:	jacqueline.steffen(at)ptb.de
Telefon 2:	+49 30 3481-7444

Derzeit findet der nächste, historisch wohl größte Sprung in der Technologie statt: Nach langer Anlaufphase beginnt bei den führenden Chip- Produzenten die Massenfertigung mit EUVLithographie. Die Hochleistungs-Optik dafür wird jetzt im Volumen bei ZEISS produziert. Gleichzeitig wird bereits die nächste Technologie-Generation vorbereitet: „EUV High-NA“. Wir zeigen einen Überblick über den aktuellen Stand der Optik- Technologie und geben einen Ausblick auf die zukünftigen Systeme.