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Katalog optischer Konstanten von 19 Materialien im EUV-Bereich veröffentlicht

19.01.2022

Abbildung: Der komplexwertige Brechungsindex n=1-δ-iβ verschiedener Materialien für die EUV-Lithografie bei einer Wellenlänge von 13.5 nm.

Die Einführung der EUV-Lithographie in die Halbleiterfertigung hat den technologisch relevanten Spektralbereich der elektromagnetischen Strahlung in den Bereich der extremen UV-Strahlung (EUV) wesentlich erweitert. Für die Entwicklung optischer Komponenten wie Spiegel, Gitter oder Fotomasken in diesem Spektralbereich müssen die optischen Eigenschaften der relevanten Materialien genau bekannt sein. Die existierenden Datenbanken enthalten für viele chemische Elemente und erst recht Verbindungen und Legierungen meist nur Abschätzungen auf Basis von einigen gemessenen und theoretischen Werten. Die PTB hat in EU-weiten Forschungsprojekten und langjährigen Kooperationen mit führenden Forschungsinstituten und Firmen aus der Halbleiterindustrie, die optischen Eigenschaften von technologisch relevanten Materialien, z. B. die optischen Eigenschaften von potentiellen Absorbermaterialien für EUV Fotomasken untersucht. Mit diesen Daten können solche Fotomasken optimiert werden, um den optischen Kontrast der abzubildenden Strukturen auf den Halbleiterchips zu verbessern. Die Ergebnisse für einen ersten Satz von Materialien wurden jetzt publiziert und damit für die Technologieentwicklung bereitgestellt. Für einen einfachen und schnellen Zugriff wurden sie als Grundstein einer Datenbank, die ständig mit neuen Ergebnissen erweitert werden soll, frei zugänglich gemacht).

Veröffentlichung:

R. Ciesielski, Q. Saadeh, V. Philipsen et al., “Determination of optical constants of thin films in the EUV”, Appl.Opt. 61 (2022)

Link zur Datenbank: https://www.ocdb.ptb.de/home

DOI: https://doi.org/10.1364/AO.447152

Ansprechpartner:

R. Ciesielski, 7.14, E-Mail: Opens local program for sending emailRichard.Ciesielski(at)ptb.de

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