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251. PTB-Seminar "Neue Trends in der optischen Ebenheitsmesstechnik"

16.03.2010

Auf einem im Oktober 2009 an der PTB veranstalteten Seminar wurden aktuelle Entwicklungen in der optischen Ebenheitsmesstechnik vorgestellt und diskutiert. Kollegen aus Universitäten, Forschungszentren, metrologischen Staatsinstituten und der Industrie berichteten über ihre aktuelle Arbeiten.

So lassen sich mittels linear scannender Deflektometrie bei nahezu senkrechtem Lichteinfall auf die Oberfläche des Prüflings optische Oberflächen mit einer Genauigkeit im Subnanometer-Bereich und einer Lateralauflösung von wenigen Millimetern messen. Anwendung finden solche Techniken zum Beispiel in der Charakterisierung ultrapräziser Synchrotron Optiken. Bei einer anderen Anwendungsform der Deflektometrie wird ein breites Spektrum an Einfallswinkeln benutzt, ohne dabei aber die Fähigkeit zu verlieren, Strukturen im Nanometerbereich aufzulösen.

Interferometrische Verfahren liefern bei nahezu senkrechtem Lichteinfall ebenfalls Genauigkeiten im Subnanometer-Bereich. Hier gibt es Verfahren, die gleichzeitig eine hohe Lateralauflösung bis zu einigen zehn Mikrometern liefern, wie zum Beispiel das Traceable-Multi-Sensor Verfahren der PTB. Ein wesentlicher Vorteil dieses Verfahrens ist, dass die bei herkömmlichen interferometrischen Verfahren benötigten Referenzflächen nicht erforderlich sind. Ähnlich wie bei der Deflektometrie gibt es auch bei der Interferometrie Verfahren mit nicht senkrechtem Lichteinfall, die es ermöglichen, sogar technische Oberflächen mit etwas verminderter Genauigkeit zu messen.

Das Seminar wurde als ein gutes Forum für die optische Ebenheitsmesstechnik gesehen und es wurde angeregt, ähnliche Veranstaltungen zukünftig erneut durchzuführen.

 

Ansprechpartner:

M. Schulz, AG 4.21
C. Elster, AG 8.42