Profil
Die Arbeitsgruppe EUV-Radiometrie entwickelt Messtechnik für die Charakterisierung von optischen Elementen und Detektoren sowie die Untersuchung von Materialeigenschaften im Spektralbereich von 1 nm bis 40 nm. Anwendungen sind vor allem Untersuchungen von optischen Komponenten für die Halbleiterlithographie mit EUV-Strahlung und die Entwicklung von Methoden zur Untersuchung strukturierter Oberflächen mittels Lichtstreuung. Die Gruppe nutzt 2 Monochromator-Strahlführungen an der MLS und bei BESSY II und betreibt das EUV-Reflektometer und ein Scatterometer-Ellipsometer (siehe Bild) zur Messung von Reflexion und Streuung unter beliebigen Polarisationsrichtungen.
Forschung/Entwicklung
- Methoden zur Untersuchung strukturierter Oberflächen mittels Lichtstreuung
- Verbesserte Messverfahren für EUV-optische Komponenten
- Untersuchungen der Oberflächenrauheit von Spiegeln mit Multilagenbeschichtung
- Bereitstellung von Messtechnik und metrologischem Know-How für Industrie und Forschung im Rahmen von Kooperationen
- Lebensdaueruntersuchungen an optischen Komponenten und Detektoren unter intensiver EUV-Bestrahlung
Dienstleistungen
Die folgenden Kalibrierungen gemäß 
QM-Handbuch der Abt. 7 werden in AG 7.12 durchgeführt:
- spektrale Empfindlichkeit von Strahlungsempfängern mit Rückführung auf Kryoradiometrie
- spektraler Reflexions- und Transmissionsgrad
- Nachweiswahrscheinlichkeit für Photonen (energiedispersive Röntgendetektoren)