PTB und ASML nehmen bei BESSY II ein neues Forschungs-Strahlrohr in Betrieb
Die fortschreitende Miniaturisierung der Mikroelektronik macht es unumgänglich: Zukünftig müssen die Strukturen auf den Mikrochips und anderen Bauteilen mithilfe von Lithografie im EUV-Bereich hergestellt werden, also mit einer extrem kleinen Wellenlänge von nur 13,5 nm. Für Testmessungen haben die Physikalisch-Technisc...
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