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Kristalline Normale

Für die Rasterkraftmikroskopie (SPM) werden im Rahmen des Joint Research Project (JRP) SIB61 CRYSTAL (Crystalline surfaces, self assembled structures, and nano-origami as length standards in (nano)metrology) neue Normale für die Stufenhöhenmessung (im Subnanometerbereich) und lateral Auflösungsnormale (5 – 50 nm) entwickelt. Diese Normale basieren auf dem Kristallgitter des Siliziums und dessen konstanten Gitterabständen und selbstorganisierenden Strukturen aus Blockcopolymeren. Weiterhin wird dabei DAN Nanoorigami für die Entwicklung dreidimensionaler Nanoobjekte eingesetzt. Das JRP startet im Oktober 2013 und wird im Rahmen der European Metrology Research Projects von EURAMET durchgeführt.

Abbildung 1: Übersicht der aktuell (Stand 2012) verfügbaren Stufenhöhen und laterale Auflösungsnormale. Das JRP SIB61 zielt darauf die zur Zeit vorhandene Lücke (weiße Fläche) zu füllen und neue Normale zu entwickeln.