Helmholtz-Veranstaltung 2023: NanoScale 2023 vom 10. bis 12. Oktober 2023 in Helsinki

Nach 4-jähriger Pandemie-bedingter Pause fand im Oktober 2023 wieder die NanoScale statt, diesmal im modernen Veranstaltungszentrum Technopolis Ruoholahti in Helsinki, Finnland. Mit 106 Teilnehmenden aus 24 Ländern erfuhr die 9. Auflage der NanoScale auch dieses Mal großen Zuspruch und übertraf die – nach der Pandemie etwas vorsichtigen – Erwartungen des Organisationsteams deutlich. Viele Tagungsgäste zeigten sich erfreut, nach der Pandemie endlich wieder ihre Kolleginnen und Kollegen aus Europa und aller Welt persönlich treffen und sich mit ihnen austauschen zu können. Neben Gästen aus 15 europäischen Ländern konnten wir u. a. auch Expertinnen und Experten aus Australien (NMIA), Japan (NMIJ), USA (NIST), Korea (KRISS), Taiwan (ITRI) und Südafrika (NMISA) begrüßen.

Organisiert wurde die NanoScale 2023, die auch als dauerhaftes EURAMET-Projekt 1342 unter Leitung von Uwe Brand läuft, durch ein lokales Team um Virpi Korpelainen vom finnischen Metrologie-Institut VTT MIKES gemeinsam mit dem PTB-Team um Thorsten Dziomba (PTB 5.1) mit Unterstützung durch den Helmholtz-Fonds. Die Auswahl der Vorträge erfolgte durch ein 12-köpfiges International Scientific Committee. Insgesamt wurden 31 Vorträge und 52 Poster präsentiert.
 
Die Konferenz-Proceedings werden als virtuelle Special Section in Measurement Science and Technology (MST) veröffentlicht. Die ersten Artikel sind bereits zur Veröffentlichung angenommen worden und sind dort verlinkt. Weitere Artikel werden im Laufe des Sommers 2024 ergänzt, sobald sie ihre Peer-Review abgeschlossen haben.

Neues Tastspitzenprüfnormal entwickelt

In Zusammenarbeit mit dem Fachbereich 5.2 Dimensionelle Nanometrologie wurde ein Siliziumnormal mit rechteckförmigen Rillen und sehr scharfen Kanten zur Messung des Spitzenradius von Tastspitzen entwickelt. Spitzenradius und Spitzenform können über die Einsinktiefe der Spitzen bei der Messung der unterschiedlich breiten Rillen oder über die direkte Abbildung der Spitzen an den Kanten des Tastspitzenprüfnormals bestimmt werden.

Der Fachbereich Oberflächenmesstechnik betreibt industrienahe Forschung und Entwicklung zu taktilen und optischen Oberflächentexturmessverfahren mit dem Ziel, zukünftig auch optische Messmikroskope für Rauheitsmessungen einsetzen zu können. Darüber hinaus werden neue Kalibriernormale auf Basis von Siliziumkristallen und neue Messverfahren mit Hilfe von Mikro-Elektro-Mechanischen Systemen (MEMS) entwickelt.

Der Fachbereich ist zuständig für die Kalibrierung

• von Raunormalen und Tiefeneinstellnormalen bis 5 mm Tiefe
• der Schichtdicke
• von Härtevergleichsplatten und
• der Biegesteifigkeit von AFM-Cantilevern und von Referenzfedern

Der Fachbereich

• beteiligt sich an der Erarbeitung von Normen und Richtlinien für die Oberflächenmesstechnik, sowohl auf internationaler Ebene im ISO/TC 213 und bei der IMEKO als auch in nationalen Gremien des DIN, VDI und DKD
• betreibt und unterstützt die Entwicklung von Normalen und Prüfkörpern im Bereich der Oberflächenmesstechnik, d.h. für taktile-, optische- und rasterkraftmikroskopische Verfahren sowie für die Härte- und Schichtdickenmesstechnik
• ist aktiv im Bereich der Forschung und Entwicklung neuer Messgeräte und Messverfahren sowie Algorithmen zur Analyse von Daten und der Modellierung von Messverfahren.

Monoatomare Stufenhöhennormale

Verfahrensprozess und Messmöglichkeiten an monoatomaren Stufen auf ansonsten atomar glatten Si-Oberflächen. Abteilungsnachrichten

Optische Rauheitsmesstechnik

Entwicklung von Richtlinien für die Konfiguration von optischen Oberflächenmessgeräten für die Messung von Rauheit Abteilungsnachrichten

Taktile Mikro-Elektro-Mechanische Systeme (MEMS)

Entwicklung von Messverfahren für die Messung der dynamischen mechanischen Eigenschaften von Oberflächen. Abteilungsnachrichten

Softwareentwicklung zur Rauheitskenngrößenbestimmung

Entwicklung von Software zur Bestimmung von Rauheitskenngrößen aus Oberflächenmessungen.