In Zusammenarbeit mit dem Advanced Mask Technology Center (AMTC) wurde ein neues EUV-Maskennormal entwickelt. Mittels 3D/CD-AFM und HR-TEM wurden die Maskenstrukturen bzgl. der Parameter Strukturbreite (CD), CD-Gleichförmigkeit (CDU), Abstand, Höhe, Flankenwinkel, Linien- und Kantenbreite bzw. -rauheit (LER/WR) u.a. kalibriert. Als Messunsicherheit für CD wurde U = 2,5 nm erreicht. Das Normal dient als „Golden Standard“ für mehrere CD-Messgeräte am AMTC.
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