
Es wird ein nichtinvasives Verfahren vorgestellt, mit dem die Profilgeometrie optisch diffraktiver Strukturen mit hohem Aspektverhältnis quantitativ charakterisiert werden kann. Es werden exemplarisch Ergebnisse von Profilbestimmungen an einem PMMA-1D-Sinusgitter und an einem Quarz-2D-Kreisgitter (Axicon) gezeigt.
Bild 1: Verfahrensschritte zum nichtinvasiven Herstellen eines Profilschnittes. Dafür werden als bevorzugte Materialien Celluloseacetat (CA) oder Polyvinylalkohol (PVA) eingesetzt. Abformungen mit Celluloseacetat sind z. B. von Quarz-, Silizium- oder Chrommastern möglich. PVA ist zusätzlich auch für Polymere geeignet. Falls aus irgendwelchen Gründen Reste des Replikatmaterials auf der Originalprobe zurückbleiben, können diese bei Verwendung von Celluloseacetat mit Aceton und bei Polyvinylalkohol mit Wasser wieder abgelöst werden. CA- oder PVA-Replikate lassen sich in vernünftiger Qualität nicht brechen, da diese Materialien zu weich sind. Auch das vorherige Abkühlen z. B. in flüssigem Stickstoff führt nicht zum Erfolg, da sich damit erfahrungsgemäß keine guten Bruchkanten realisieren lassen. Beispielsweise lagert sich bei PVA beim Wiedererwärmen auf Zimmertemperatur Kondenswasser in die Strukturen ein, was zu einer starken Verformung der Bruchkanten und der Strukturen führt. Deshalb wird im Schritt (1b) von dem „weichen“ Negativ-Replikat mittels eines UV-aushärtenden Polymer (z. B. Ormocomp, siehe www.microresist.com) ein hartes, „glasartiges“ Positiv-Replikat erzeugt [1]. Zur Untersuchung im REM wird dieses Positiv-Replikat mit einer dünnen Metallschicht, z. B. 5 nm Platin, besputtert (1c). Dieses Positiv-Replikat könnte im Prinzip direkt gebrochen werden, jedoch können hierbei sehr leicht die abgeformten Oberflächenstrukturen beschädigt werden. Deshalb wird in Schritt (1d) das Positiv-Replikat nochmals in das UV-aushärtende Polymer eingebettet. Man erhält ein glasartiges Sandwich aus UV-Polymer/Sputterschicht/UV-Polymer, das sich einfach brechen lässt, ohne die eingebetteten Strukturen zu deformieren. Im REM lässt sich das vom Original replizierte Profil, d. h. die Sputterschicht, wegen des hohen Kontrastes gut sichtbar machen und kann anschließend quantitativ analysiert werden.
Bild 2: Besputterter PVA-Abguss (Negativ-Replikat). Als Material für das Negativ-Replikat eignet sich hier nur PVA, da für einen Abdruck in CA die Probe zuvor mit Aceton benetzt werden muss, was jedoch die PMMA-Struktur angreifen würde. In Bild 2 ist eine REM-Aufnahme des PVA-Abgusses dargestellt. Das Profil des Sinusgitters ist in Bild 3 zu sehen. Man kann daraus eine Strukturhöhe von ca. 330 nm ermitteln.
Bild 3: REM-Aufnahme des Profilschnitts (links: Original, rechts: mit eingezeichnetem sinusförmigen Profil). b) Quarz-2D-Gitter (Axicon)
Bild 4: REM-Aufnahmen (links: Original-Axicon, rechts: Besputterter CA-Abguss).
Bild 5: REM-Aufnahme des Profilschnitts. In Bild 5 sind REM-Aufnahmen des gebrochenen Sandwichsystems des Axicons zu sehen. Man erkennt im Profilschnitt die Axicon-Strukturen und kann die Form der Profile quantitativ messen ohne das Original-Axicon zu zerstören (hier: Höhe ca. 1,8 µm, Breite: 250 nm, Aspektverhältnis: ca. 7,2).
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Literatur: [1] J. J. Wang et al., Wafer-Based Nanostructure Manufacturing for Integrated Nanooptic Devices, Journal of Lightwave Technology, Vol. 23(2), (2005) [2] R. Brunner et al., Diffraction Based Solid Immersion Lens, J. Opt. Soc. Am. A, Vol. 21, No. 7, pp. 1186-1191 (2004) | ||||||||||
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