Logo PTB

Optik

Abteilung 4

Gleich drei Basiseinheiten des internationalen Einheitensystems sind in der Optik beheimatet: die der Länge, Zeit und Lichtstärke. Darauf aufbauend werden für verschiedene optische Größen höchstgenaue Normale und Messmethoden entwickelt.

Aufgaben

Die Abteilung "Optik" unterstützt Industrie, Wissenschaft und Gesellschaft durch Bereitstellung von Messmöglichkeiten sowie Forschung und Entwicklung auf dem Gebiet optischer Technologien. Aufbauend auf den Basiseinheiten von Länge, Zeit und Lichtstärke werden verschiedene Einheiten dargestellt und weitergegeben sowie höchstgenaue Normale und Messmethoden entwickelt.

Die Abteilung realisiert mit der Zeitskala UTC (PTB) die gesetzliche Zeit in der Bundesrepublik Deutschland, führt Präzisionsmessungen auf unterschiedlichen Gebieten der Optik durch und arbeitet bei der Zertifizierung und der internationalen Normung mit.

Nachrichten

Am LENA, in Kooperation mit der TUBS und der PTB, werden nanostrukturierte GMR-Mikrofarbfilter designt, entwickelt und gefertigt. In Kombination mit CCD oder CMOS Bildsensoren sollen damit effiziente spektroskopische Sensoren für Anwendungen in Medizin und Biologie entwickelt werden. Die GMR-Farbfilter basieren auf periodischen Subwellenlängen-Metallgittern in Kombination mit einer dielektrischen Wellenleiterschicht. Die Filterfunktion wird dabei pixel-spezifisch über die Strukturparameter (z.B. Gitterperiode oder Füllfaktor) angepasst.

[ mehr ]

We show a novel method to derive best-fitting sample parameters and their uncertainties from measured Mueller matrices.
The nonoptimal treatment of depolarization in current approaches to evaluate Mueller matrix measurements may lead to systematic measurement errors and inadequate uncertainty estimations, particularly for surfaces with substantial depolarization. To overcome these issues, we develop improved analysis methods providing realistic uncertainty estimations and more reliable measurement results.
Commonly used merit functions treat depolarization of Mueller-ellipsometry measurements as a residual error in the optimization process. The best fit solution has the smallest overall depolarization. We propose to use depolarization to derive a weight-factor for each residual contribution to the merit-function.
Exploiting raw data provided by our Sentech SE 850 ellipsometer we include also measurement statistics in the merit function....

[ mehr ]

Spectroscopic Mueller matrix ellipsometry is a promising tool for the characterization of nanostruc-tured surfaces. Direct optical measurements of samples with geometrical dimensions smaller than the incident wavelength are inherently limited by the classical resolution limit. However, as an indi-rect measurement technique, this limit does not apply to ellipsometry. In this contribution, we in-vestigated the influence of manipulations of the near-field on the off-diagonal Mueller matrix ele-ments. We designed and fabricated individual resist nanostructures on a silicon wafer. The struc-tures possess distinct geometrical features in the range from several nanometers to a few microm-eters and were produced by electron beam lithography. We performed spectroscopic measure-ments with a commercial ellipsometer to determine the Mueller matrices of the samples. In addi-tion, nanosized silicon carbide grating structures were examined. Using a...

[ mehr ]
Weitere Nachrichten

Fachbereiche & ArbeitsgruppenFachbereiche & Arbeitsgruppen

Weitere InformationenWeitere Informationen