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Nanostrukturierung und Reinraumzentrum-Infrastruktur

Arbeitsgruppe 2.44
  • Raster-Elektronenmikroskop Zeiss Supra 40  


  • Elektronenstrahlschreiber (Vistec, Typ EBPG-5000+), Strahlenergie 20 , 50 oder 100 keV