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Herstellungsprozess für topographiefreie Auflösungsnormale

15.01.2016

Zur Bestimmung der chemischen Beschaffenheit von Oberflächen werden verschiedene analytische  Verfahren benutzt, die elementspezifische Aussagen zur Zusammensetzung ermöglichen. Um deren Auflösung zu kalibrieren benötigt man geeignete flächige Prüfkörper, die aus definiert auf die Messanwendung angepassten 2D-Strukturen mehrerer Materialien bestehen. Die PTB hat hierfür ein neuartiges Herstellungsverfahren entwickelt, mit dem es über verschiedene Schritte möglich ist diese topographiefreien Prüfkörper herzustellen.

Das Referenzmaterial besteht aus einem Silizium-Wafer, auf den Strukturen aufgebracht sind, die aus verschiedenen Materialien bestehen. Die Oberfläche sollte möglichst topographiefrei sein, d.h. die Strukturen sollten keine Stufen an den Übergängen aufweisen, an denen Störeffekte durch an den Kanten gestreute Elektronen entstehen können. Durch die geschickte Kombination bei dem Aufbringen der verschiedenen Materialpartner und dem Entfernen der entsprechenden Wafer- oder anderer Trägersubstrate, entsteht eine höchst präzise, nahezu topographiefreie Referenzoberfläche.

Wirtschaftliche Bedeutung
Das Verfahren wurde für die Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) entwickelt. Weitere Anwendungen für strukturierte, ebene Prüfkörper sind die Augerelektronen-spektroskopie, die Härtemessung und die Rasterkraftmikroskopie.

Entwicklungsstand
Erste Prüfkörper wurden im Rahmen des europäischen Förderprojektes SurfChem entwickelt.

Lizenzen für die Nutzung dieser neuen Methode sind verfügbar.

 

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