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Titel Geometrienormal für Mikrosystemtechnik
Erläuterung Basierend auf lithografischen Methoden können beliebige 3D-Normale im sub-mm-Bereich hergestellt werden. Durch einkristallines Substratmaterial exzellente Oberflächenrauhigkeit in allen Raumdimensionen.
Zusammenfassung Die Erfindung betrifft ein Geometriennormal, das eine erste Platte, die eine Erstplatten-Ausnehmung aufweist, die von einem Erstplatten-Rand begrenzt ist, und zumindest eine zweiten Platte, die mit der ersten Platte verbunden ist umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Platte und die zweite Platte Einkristalle sind, der Erstplatten-Rand entlang einer Kristallebene der ersten Platte verläuft und die zumindest eine zweite Platte eine Zweitplatten-Ausnehmung aufweist, die von einem Zweitplatten-Rand begrenzt wird, der entlang einer Kristallebene der zweiten Platte verläuft, so dass sich die Erstplatten-Ausnehmung und die Zweitplatten-Ausnehmung zu einer gemeinsamen Ausnehmung ergänzen.
Weitere Informationen patent_0194_DE102008024808 B3 download
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Jahr 2007
Erfinder Danzebrink, Hans-Ulrich
Bütefisch, Sebastian
Verlauf des Patentverfahrens DE 10 2008 024 808.8 ; 2008-05-23
DE 10 2008 024 808 B3 ; 2009-11-26
IPC-Code G01B003-004
B81B001-000
PTB-Zeichen 0194
Verwertungsinfo LIZENZ VERFÜGBAR
Kontakt Dr. Bernhard Smandek, Tel.: +49 531 592 8303 Fax +49 531 592 69 8303; bernhard.smandek@ptb.de