Technologieangebot
Titel Verfahren zur Prüfung von Mikrostrukturen
Erläuterung Optisches Verfahren ermöglicht Vermessung lateraler Strukturen mit Nanometer-Auflösung; zur Qualitätssicherung von MEMS
Zusammenfassung Es wird ein Verfahren zur Messung von Verschiebungen und/oder einer Geometrie von Mikrostrukturen offenbart, bei dem einfallendes Licht auf eine zu prüfende Struktur fokussiert wird und das von der Struktur kommende Licht erfasst wird. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass eine laterale Relativbewegung zwischen der zu prüfenden Struktur, einem fokussierten Lichtfleck und einer detektierenden Apertur erzeugt wird, so dass die Intensität des reflektierten Lichtes variieren wird, um eine Beziehung zwischen der lateralen Relativbewegung und der Intensitätsantwort zu ermitteln. Es wird ferner eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens offenbart.
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Jahr 2006
Erfinder Herrmann, Konrad
Li, Zhi
Verlauf des Patentverfahrens DE 10 2006 060 584.5 ; 2006-12-19
DE 10 2006 060 584 A1 ; 2008-06-26
DE 10 2006 060 584 B4 ; 2008-10-30
IPC-Code G01B
PTB-Zeichen 0139
Verwertungsinfo Lizenz verfügbar
Kontakt Dr. Bernhard Smandek, Tel.: +49 531 592 8303 Fax +49 531 592 69 8303; bernhard.smandek@ptb.de