Nanostrukturen für technische Anwendungen

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Ausstattung

200 kV-Transmissions-Elektronenmikroskop (TEM) mit Rasterzusatz (STEM), beide mit Feldemissions-Strahlquelle und energiedispersiver Röntgenmikroanalyse  Digitales Bildverarbeitungssystem Querschnitts-Präparation (TEM und STEM)  Sputter- und Aufdampfanlagen		TEM
Raster-Elektronenmikroskop Zeiss Supra 40		Supra 40
Elektronenstrahlschreiber (Vistec, Typ EBPG-5000+), Strahlenergie 20 , 50 oder 100 keV		EBPG 5000+
Elektronenstrahlschreiber (Leica, Typ LION LV1), Strahlenergie 0.5 -20 keV		LION LV1