Europäische Firmen sind weltweit führend bei der Entwicklung der EUV-Lithografie zur Herstellung von Halbleiterchips mit noch kürzeren Wellenlängen als bisher, nämlich mit 13,5 Nanometern im Spektralbereich des sogenannten Extrem-UV (EUV). Die Volumenproduktion von Optiken und Wafer-Scannern der EUV-Lithografie (EUVL) ist ab 2014 geplant. Die PTB ist bei dieser Entwicklung ganz vorne dabei. Mit einem neuen EUV-Strahlrohr an dem PTB-eigenen Elektronenspeicherring, der Metrology Light Source (MLS) in Berlin-Adlershof, wird sie dazu EUVL-Optiken charakterisieren. Die bereits seit 1998 laufende Zusammenarbeit mit der Firma Carl Zeiss SMT GmbH ist jetzt für vier Jahre verlängert worden. PTB-Messungen tragen dazu bei, die Qualität der Zeiss-Optiken in den sogenannten Steppern (Lithografie-Maschinen) der niederländischen Firma ASML, des Weltmarktführers auf diesem Gebiet, nachzuweisen. mehr...