Neue Technologien für Speicher- und Logikchipproduktion der nächsten Generation aus Dresden
Das Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) fördert mit dem Verbundprojekt "Critical Dimension und Registration für die 32nm Maskenlithographie" (CDuR32) in den kommenden zweieinhalb Jahren die High-Tech Entwicklung von Technologien und Messtechniken im Bereich höchstintegrierter Elektronik. Ziel ist es, der Region Dresden, dem führenden Elektronikstandort in Europa, einen Vorsprung im Bereich moderner Masken zu verschaffen. Partner im Verbundprojekt sind das Advanced Mask Technology Center (AMTC) in Dresden, das mittelständische Unternehmen Vistec Semiconductor Systems GmbH aus Weilburg und die Physikalisch-Technische Bundesanstalt in Braunschweig und Berlin (PTB). mehr...