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Projekt

Mathematische Modellierung und Auswerteverfahren für die Scatterometrie

05/2008 - 12/2010

Die scatterometrischen Messverfahren der PTB ermöglichen eine indirekte Messung kritischer Strukturgrößen von lithografischen Masken mit einer Genauigkeit im Nanometerbereich. Die dazu erforderlichen mathematischen Modellierungen und Auswerteverfahren zur Lösung des inversen Problems werden in Zusammenarbeit mit dem Weierstrass-Institut für angewandte Analysis und Stochastik weiter entwickelt. Dabei werden auch die Messunsicherheiten von scatterometrischen Verfahren mit Hilfe von mathematischer Modellierung  bestimmt.  Dieses Projekt ist Teil des BMBF-Verbundvorhabens CDuR32.

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