Mathematische Modellierung und Auswerteverfahren für die Scatterometrie
05/2008 - 12/2010
Förderung
Die scatterometrischen Messverfahren der PTB ermöglichen eine indirekte Messung kritischer Strukturgrößen von lithografischen Masken mit einer Genauigkeit im Nanometerbereich. Die dazu erforderlichen mathematischen Modellierungen und Auswerteverfahren zur Lösung des inversen Problems werden in Zusammenarbeit mit dem Weierstrass-Institut für angewandte Analysis und Stochastik weiter entwickelt. Dabei werden auch die Messunsicherheiten von scatterometrischen Verfahren mit Hilfe von mathematischer Modellierung bestimmt. Dieses Projekt ist Teil des BMBF-Verbundvorhabens CDuR32.
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Weitere Informationen:
Inverses Problem in der Scatterometrie