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Oberflächenmesstechnik

Fachbereich 5.1

 

Willkommen auf der Oberfläche

Aufgaben

Der Fachbereich 5.1 - „Oberflächenmesstechnik“

  • ist zuständig für die Rückführung von Längen und von Kenngrößen in der Oberflächenmesstechnik, d.h.
  • die Kalibrierung von Stufen- und Tiefeneinstellnormalen Opens internal link in current window
  • die Kalibrierung von Raunormalen Opens internal link in current window
  • die Kalibrierung von Härtevergleichsplatten Opens internal link in current window
  • die Kalibrierung der Schichtdicke Opens internal link in current window
  • die Kalibrierung der Biegesteifigkeit von Cantilevern und der Steifigkeit von MEMS Opens internal link in current window
  • arbeitet an Normen und Richtlinien für Oberflächenmesstechnik in den nationalen (VDI, DKD, DIN) und internationalen Gremien (ISO, IMEKO) mit
  • betreibt und unterstützt die Entwicklung von Normalen und Prüfkörpern im Bereich der Oberflächenmesstechnik, d.h. für taktile-, optische- und rasterkraftmikroskopische Verfahren sowie für die Härte- und Schichtdickenmesstechnik
  • ist aktiv im Bereich der Forschung und Entwicklung neuer Messgeräte und Messverfahren sowie Algorithmen zur Analyse für die Auswertung von Daten.

Forschung

Opens internal link in current windowProfilscanner

Schnelle Oberflächenmessungen (Rauheit, E-Modul, Härte, Ablagerungen) mit Si-Mikrotastern in Einspritzdüsen.

Opens internal link in current windowLichtinduzierte Kraft
Nachweis der theoretisch vorhergesagten Lichtanziehung zischen planparrallelen Platten mit geringem Abstand.
Monoatomare Stufenhöhennormale
Verfahrensprozess und Messmöglichkeiten an monoatomaren Stufen auf ansonsten atomar glatten SI-Oberflächen.
Laterale Auflösungsnormale
Geometrie, Herstellung, Messung und Auswerteverfahren lateraler Auflösungsnormale für die Mikroskopie und taktile Messverfahren.
Opens internal link in current windowSoftwareentwicklung zur Rauheitskenngrößenbestimmung
Entwicklung von Softwarenormalen zur Bestimmung der Rauheitskenngrößen aus Oberflächenmesswerten.

 

 

Informationen

Informationen

 

Opens external link in new windowNanoScale 2016 in Wrocław, Polen
vom 9. bis 11. März 2016

Das 11. Seminar "Quantitative Mikroskopie" und as 7. Seminar über "Kalibrierungen auf der Nanoskale" fand in diesem Jahr in Wroclaw, Polen, statt.Organisiert wurde es über Prof. T. Gotschalk von der Wrocław University of Technology, Wroclwa, Polen, der Präsidentin D. Habich des   Central Office of Measures/Glówny Urzad Miar (GUM) in Warszawa, Polen, der Nanometrology Gruppe des Euramet TC-Length und der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt, Braunschweig, Deutschland. Mehr als  90 Teilnehmer aus der ganzen Welt nahmen daran teil. In 20 Vorträgen und über 50 Poster konnte man sich über den neuesten Stand der Nanometrologie informieren.