Atomar glatte Flächen
Mit einem neuartigen Herstellungsverfahren werden in der PTB auf (111)-Siliziumwafern gezielt Bereiche bis 150 μm² Größe erzeugt, die sowohl atomar glatte Oberflächen als auch Oberflächen mit monoatomaren Stufen besitzen. Bei dem Verfahren wird ein selbstorganisierender Prozess ausgelöst, der im Ultrahochvakuum an mehreren lithografisch strukturierten Positionen zu einem gezielten Heizprozess führt. Die so hergestellten atomar glatten Flächen ermöglichen einen großen Fortschritt in der Ebenheitsmessung und können in Verbindung mit den monoatomaren Stufen zukünftig als Grundlage für neuartige Prüfkörper und Normale in der dimensionellen Messtechnik dienen. Diese glatten Bereiche können nun auch beidseitig auf polierten Si-Wafern hergestellt werden, also mit einer diskreten Anzahl von Gitterebenen zwischen den gegenüberliegenden Flächen. (Technologieangebot 0440)
Stufen- und Flächennormale höchster Güte
einsetzbar für optische Verfahren
Ansprechpartner für Technologieangebote
Andreas Barthel
Telefon: (0531) 592-8307
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