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Verlängerung der Vereinbarung zur EUV-Reflektometrie mit der Carl Zeiss SMT GmbH bis Ende 2020

09.08.2016

Ein Schwerpunkt der fachlichen Arbeit in der Arbeitsgruppe EUV-Radiometrie ist die messtechnische Unterstützung der Deutschen und Europäischen Zulieferindustrie für die Halbleiterfertigung bei der Entwicklung der EUV Lithographie in zahlreichen Kooperationen. Die Zusammenarbeit mit der Carl-Zeiss SMT GmbH setzte 1998 den Startpunkt für dieses Arbeitsgebiet und bildet seitdem die Grundlage für die stetige Erweiterung der messtechnischen Fähigkeiten der PTB im Bereich der EUV Reflektometrie, Radiometrie und Scatterometrie, die sich in einem immer größeren Kreis von Kooperationspartnern mit immer breiter gestreuten messtechnischen Aufgabestellungen wiederspiegelt. Mit der Unterzeichnung des nunmehr 8. Nachtrags zu der ursprünglichen Vereinbarung wurde die Zusammenarbeit mit Zeiss bis Ende 2020 verlängert. Die PTB wird in dieser Zeit ihre Fähigkeiten in der Reflektometrie durch den Aufbau und die Inbetriebnahme eines neuen großen Reflektometers mit einem kohlenwasserstofffreien Vakuumsystem und verbesserter Probenpositionierung weiterentwickeln. Außerdem steht der Aufbau eines EUV-Teleskopsystems, mit dem die Ortsauflösung auf der Oberfläche der optischen Komponenten auf ca. 10 µm verbessert werden soll, vor dem Abschluss. Davon wird vor allem auch die Entwicklung neuartiger Messverfahren auf der Basis von EUV-Reflektometrie und Scatterometrie für die Untersuchung strukturierter Oberflächen profitieren. Diese Verfahren könnten in Zukunft wegen der verwendeten kurzen Wellenlänge die optische Scatterometrie bei der Vermessung der Strukturen auf Halbleiterwafern ergänzen oder ersetzen.

Ansprechpartner:

F. Scholze, 7.12, E-Mail: Opens window for sending emailFrank.Scholze(at)ptb.de