Fachabteilungen > Abt. 8 Medizinphysik und metrologische Informationstechnik > 8.4 Mathematische Modellierung und Datenanalyse > 8.41 Modellierung und Simulation > Auswerteverfahren für die EUV-Scatterometrie
Projekt
Auswerteverfahren für die EUV-Scatterometrie
06/2005 - 12/2007
Scatterometrie ist eine indirekte Messmethode zur Bestimmung von Oberflächenprofilen im Mikro- und Nanometerbereich, wie sie z. B. auf Fotolithographiemasken auftreten. Im Rahmen des BMBF-Verbundprojektes 
ABBILD, wurde in Zusammenarbeit mit dem Weierstraß-Institut Berlin und zwei experimentellen PTB-Arbeitsgruppen ein mathematisches Auswerteverfahren entwickelt und die grundsätzliche Eignung der EUV-Scatterometrie zur Profilbestimmung nachgewiesen.
© Physikalisch-Technische Bundesanstalt, letzte Änderung: 2011-10-13, Webmaster Abteilung 8
Druckansicht, 
PDF