Physikalisch-Technische Bundesanstalt

Untersuchung und Entwicklung höchstauflösender optischer Messverfahren zur rückgeführten Messung von Mikro- und Nanostrukturen mit Strukturgrößen bis in den Sub-100nm-Bereich.

Entwicklung optischer Mikroskopieverfahren mit dem Ziel, das Auflösungsvermögens über die Grenzen klassischer Mikroskopie (Rayleigh-Grenze) hinaus zu steigern.

Untersuchung und Modellierung der Wechselwirkungen von nanoskaligen Strukturen mit elektromagnetischer Strahlung im Hinblick auf Anwendungen für höchstauflösende Messverfahren.

Entwicklung dimensioneller optischer Messtechnik für zukünftige industrielle Anforderungen insbesondere im Bereich der Nanotechnologie und der Halbleiterindustrie.

Enge Zusammenarbeit mit der Industrie unter der Zielsetzung eines zeitnahen Transfers der entwickelten Methoden und der gewonnenen Erkenntnisse in industrielle Anwendungen.

Goniometrische Scatterometrie und Ellipsometrie im zur dimensionellen Messung periodischer Strukturen

Entwicklung eines hochauflösenden 193 nm-Mikroskops zur Strukturbreitenmessung

Entwicklung und Erforschung neuartiger überauflösender Dunkelfeldverfahren  

Weiterentwicklung rigoroser Modelle für die Mikroskopie und Scatterometrie

EMRP IND17: Metrology of small structures for the manufacturing of electronic and optical devices