Nanostrukturen für technische Anwendungen
Arbeitsgruppe 2.44
- 200 kV-Transmissions-Elektronenmikroskop (TEM) mit Rasterzusatz (STEM), beide mit Feldemissions-Strahlquelle und energiedispersiver Röntgenmikroanalyse
- Digitales Bildverarbeitungssystem
- Querschnitts-Präparation (TEM und STEM)
- Sputter- und Aufdampfanlagen
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- Raster-Elektronenmikroskop Zeiss Supra 40
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- Elektronenstrahlschreiber (Vistec, Typ EBPG-5000+), Strahlenergie 20 , 50 oder 100 keV
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- Elektronenstrahlschreiber (Leica, Typ LION LV1), Strahlenergie 0.5 -20 keV
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